JC/T2068-2011鍍膜玻璃生產規程內容是什么?百檢網檢測范圍廣泛，可根據客戶需求選擇合適的檢測標準及項目安排檢測，全國近千家合作實驗室，CMA/CNAS資質齊全，可就近安排寄樣檢測。今天百檢網就給大家簡單介紹一下JC/T2068-2011鍍膜玻璃生產規程標準內容。

1 范圍

本標準規定了鍍膜玻璃生產的術語和定義、分類、材料、制作、成品檢驗以及包裝、標志、運輸和貯存。

本標準適用于磁控濺射鍍膜玻璃和在線化學氣相沉積鍍膜玻璃的生產。

2 規范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，僅所注山期的版木適用于木文件。凡是不注日期的引用文件，其*新版本(包括所有的修改單)適用于木文件。

GB/T 728-1998 錫錠

GB/T 3620.1-2007 鈦及鈦合金牌號和化學成分

GB/T 6382.1 平板玻璃集裝器具 架式集裝器及其試驗方法

GB/T 6382.2 平板玻璃集裝器具 箱式集裝器及其試驗方法

GB/T 20878-2007 不銹鋼和耐熱鋼 牌號及化學成分

GB/T 18915.1 鍍膜玻璃 第1部分：陽光控制鍍膜玻璃

GB/T 18915.2 鍍膜玻璃 第2部分：低輻射鍍膜玻璃

JC/T 513 平板玻璃木箱包裝

3 術語和定義

下列術語和定義適用于本文件。

3.1 靶材 sputtering target

被高速荷能粒子轟擊的，可沉積或反應成膜的固體材料。

3.2 磁控濺射鍍膜 magnetron sputtering coating

真空環境中，在電場及磁場的作用下，靶材被氣體輝光放電產生的荷能離子轟計，粒子從其表面射出，在被鍍基體表面沉積或反應成膜的工藝過程。

3.3 鍍膜前驅體 coating precursor

含有構成薄膜成分的化學物質，可通過化學反應在高溫基體表面形成膜層。

3.4 化學氣相沉積鍍膜 chemical vapor deposition coating

將鍍膜前驅體施加到高溫基體表面，在氣相-固相界面發生化學反應，在基體表面沉積反應成膜的工藝過程。

3.5 工藝氣體 process gas

磁控濺射過程中用于產生等離子體或發生特定化學反應的一種或兒種氣體。化學氣相沉積過程中鍍膜前驅體氣體、反應氣體及載體氣體的總稱。

3.6 鍍膜反應器 coating reactor

在化學氣相沉積鍍膜過程中，將工藝氣體噴射到基體表面的特定裝置。

3.7 陰* cathode

在磁控濺射鍍膜工藝中，承載靶材實現磁控濺射的裝置。裝置內包括磁性材料、冷卻裝置、屏蔽裝置等。

3.8 可熱加工的鍍膜玻璃 heat treatable coated glass

指熱加工后膜層性能穩定，各項指標仍符合柑關國家標準或行業標準的鍍膜玻璃。

4 分類

4.1 按產品性能分為陽光控制鍍膜玻璃和低輻射鍍膜玻璃。

4.2 按生產工藝分為離線磁控濺射鍍膜和在線化學氣相沉積鍍膜。

5 材料

5.1 磁控濺射鍍膜玻璃生產所用材料

磁控濺射鍍膜玻璃生產所用材料包括玻璃、靶材、工藝氣體、保護膜、干燥劑等，各種材料均應符合相應國家標準或行業標準的要求以及生產工藝要求。材料應有合格證，進口材料應有相關證明。

5.1.1 玻璃

磁控濺射鍍膜玻璃可選用平板玻璃、防火玻璃、鋼化玻璃、夾層玻璃、半鋼化玻璃、壓花玻璃、超白浮法玻璃等作為基體材料。

5.1.2 靶材

磁控濺射鍍膜⊥藝常用靶材可參見附錄A。

5.1.3 工藝氣體

工藝氣體包括高純度的氬氣、氮氣、氧氣等。

5.1.4 其他材料

包括保護膜、干燥劑、隔離粉、珍珠棉、惰性氣體等。

5.2 化學氣相沉積鍍膜玻璃材料

化學氣相沉積鍍膜玻璃生產所用材料包括玻璃、鍍膜前驅體、工藝氣休等。各種材料均應符合相應國家標準或行業標準的要求，尚無相應標準的材料應符合設計要求。材料應有合格證，進口材料應有相關證明。

5.2.1 玻璃

化學氣相沉積鍍膜玻璃可選用平板玻璃、超白浮法玻璃等作為材料。

5.2.2 鍍膜前驅體

化學氣相沉積鍍膜工常用的鍍膜前驅體可參見附錄B。

6 制作

6.1 一般要求

6.1.1 鍍膜玻璃生產企業應具備滿足生產要求的設備，并定期進行維護保養。

6.1.2 鍍膜玻璃生產企業應具備必要的量具和檢測設備，并定期進行計量檢定。應具備的膜層檢測設備有在線分光光度計、離線分光光度計、耐磨試驗機和方塊電阻測量儀。宜具備輻射率測定儀、紅外分光光度計、霧度儀、臺階儀、橢偏儀等。

6.1.3 從事鍍膜玻璃生產的作業人員，應具備相應的專業技能并經過安全操作培訓，持證上崗。

6.1.4 鍍膜玻璃的生產應具備工藝操作規程、作業指導書、安全操作規程、應急方案等。

6.1.5 磁控濺射鍍膜的基片宜選用近期生產的玻璃，必要時應進行拋光處理。

6.1.6 磁控濺射鍍膜玻璃生產應具備上下片臺、清洗機、磁控濺射裝置、生產監控、在線檢測、循環冷卻水系統、水處理系統等裝置。

6.1.7 磁控濺射鍍膜工藝室的基礎真空度宜優于5×10-3Pa。

6.1.8 鍍膜面宜為玻璃的非錫面。

6.1.9 清洗用去離子水電阻宜大手5MΩ。

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